半导体行业在日常生活和工业生产中扮演着越来越重要的角色。然而，半导体制造过程中产生的大量废水和废物，半导体生产制造过程包括晶圆加工、清洗、蚀刻、电镀、磨削等环节，其中晶圆加工过程中废水的污染物浓度相对较高，半导体生产过程产生的废水主要有以下特点：

1.污染物种类多、浓度高:半导体制造过程中使用的化学物质繁多，包括各种酸、碱、有机溶剂、重金属等，这些物质在废水中含量往往较高。

2.毒性大:半导体废水中的重金属和有机溶剂等物质对人体和环境具有很大的毒性。

3.浓度的波动性:由于生产过程的波动，半导体废水中的污染物浓度往往会出现大幅度波动。

       4.回收价值高:许多半导体废水中的物质具有较高的回收价值，如重金属和有机溶剂等。

处理经验及成果

Ø增加水循环利用率。

Ø增加物料回收利用率。

Ø减少鲜水用量。

Ø减少废水处理成本，达标排放。

Ø主要处理方法

化学沉沉淀法、活性炭吸附法、生物处理法、膜分离技术

项目案例

处理废水为200m³/d，废水含镍，含镍废水主要在电镀过程、蚀刻工艺等产生，本项目进水水质中镍含量为0.35mg/L，出水水质中要求镍含量为0.05mg/L，客户选择了博斯腾公司的化学沉淀-离子交换树脂。

       化学沉积、离子交换可以稳定高效去除废水中得镍，保证出水稳定达标，同时，本项目设计了废水得循环利用，大大减少了污废水的外排，降低了企业运行成本。